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      真空鍍膜設備的產品特點

      日期:2022-04-03 21:25
      瀏覽次數:137
      摘要:
          真空鍍膜設備,主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

      產品特點

          采用箱式結構,真空系統后置,便于操作和維修;整機表面平整,方便清潔,特別適合放置在凈化間內做穿墻式安裝。

          設備真空系統抽速大,具有抽氣時間短,真空度高,生產周期短等優點。

          采用管狀加熱器上烘烤,烘烤溫度均勻,壽命長,可達到烘烤溫度350℃,烘烤均勻性270℃±10℃。

          工件轉動采用上部中心驅動,軸承帶水冷,磁流體密封,轉動平穩。

          采用石英晶體膜厚控制儀,可實現鍍膜過程的自動控制。

          采用鍍膜控制系統,人機操作界面美觀實用,系統穩定,可實現系統的手動、半自動和全自動操作。

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