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    3. 產品詳情
      • 產品名稱:三英寸三靶磁控濺射鍍膜儀

      • 產品型號:CY-MSP300S-2DC1RF
      • 產品廠商:成越科儀
      • 產品文檔:
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      簡單介紹:
      三靶磁控鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備
      詳情介紹:
      三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。三個3英寸磁控靶,一支是強磁靶,2支永磁靶;所配電源為2個500W直流電源和1個300W射頻電源,直流電源可用于金屬薄膜的制備,射頻電源可用于非金屬膜的制備,三個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。

      鍍膜儀配有兩路高精度質量流量計,客戶若另有需求可以定制至多四路質量流量計的氣路,以滿足復雜的氣體環境構建需求;儀器標配先進的渦輪分子泵組,極限真空可達1.0E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制,可以實現在不關泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產品可以選配一體機工控電腦對系統進行控制,在電腦程序上可以實現真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數功能,可以進一步提高您的實驗效率。

      磁控濺射鍍膜儀

      三靶磁控鍍膜儀應用范圍:

      該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。

      三靶磁控鍍膜儀技術參數:

      產品名稱

      三靶磁控濺射儀---靶槍下置(英文操作界面)

      產品型號

      CY-MSP300S-2DC1RF

      濺射電源

      安裝有2個直流,一個射頻

      直流(DC)電源:500W  射頻: 300W

      真空腔體

      真空腔體:450 mm Dia x 450 mm h,采用不銹鋼制作觀察窗口:  100 mm diameter

      磁控濺射頭

      儀器中安裝有33英寸磁控濺射靶槍(其中的一支是強磁靶,2支永磁靶),而且都帶有水冷夾層,可通入冷卻水對靶材降溫

      載樣臺

      載樣臺尺寸:150mm dia.(載樣臺可以旋轉,其速度為:1 - 20 rpm (可調)

      載樣臺*高可加熱溫度為750℃,控溫精度為+/- 1.0 °C

      氣體流量控制器

      儀器內部安裝有1個質量流量計

      量程為:0-200sccm (氬氣)

      氣體流量設置可以在15.6寸屏智能控制系統

      真空泵

      配有一套分子泵系統,采用一鍵式操作600L/S

      真空計

      英孚康皮拉尼真空計MPG400

      測量范圍: 5 x 10-9 mbar ---大氣壓

      薄膜測厚儀

      石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監測薄膜的厚度,分辨率為0.10 ? 

      電壓

      220V 50HZ

      備注

      1.33寸濺射靶(其中的一支是強磁靶,2支永磁靶)

      2.1路流量計

      3.不銹鋼真空腔體

      4.分子泵組

      5.膜厚檢測儀

      6.2臺直流電源,一臺射頻電源

      7.水冷機組

      8.帶旋轉加熱樣品臺

      9.15.6寸屏智能控制系統

      10.空氣壓縮機

      11.電控氣動閘板閥

      12.電控氣動切斷閥

      13.電控氣動旁抽閥

      14. 英孚康真空計 MPG 400 測量范圍


       

      豫公網安備 41019702002438號

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